Numerical Modeling of 2D Axisymmetric Flow under the influence of AC or DC EM Fields for Industrial CZ Single-Crystal Silicon Growth facilities

verfasst von
A. Krauze, A. Muiznieks, L. Gorbunov, A. Pedchenko, A. Sattler
Organisationseinheit(en)
Institut für Elektroprozesstechnik
Typ
Aufsatz in Konferenzband
Publikationsdatum
2006
Publikationsstatus
Veröffentlicht