Numerical modelling of melt flow during Czochralski Silicon crystal growth

verfasst von
J. Virbulis, T. Wetzel, Andris Muiznieks, Georg Raming, B. Rexer, E. Dornberger, W. von Ammon, Alfred Mühlbauer
Organisationseinheit(en)
Institut für Elektroprozesstechnik
Typ
Aufsatz in Konferenzband
Seiten
42-47
Publikationsdatum
1999
Publikationsstatus
Veröffentlicht