3D modelling of magnetic, temperature, hydrodynamic and dopant concentration fields during FZ silicon crystal growth

verfasst von
Gundars Ratnieks, Andris Muiznieks, Georg Raming, Alfred Mühlbauer, L. Buligins
Organisationseinheit(en)
Institut für Elektroprozesstechnik
Typ
Aufsatz in Konferenzband
Seiten
30-35
Publikationsdatum
1999
Publikationsstatus
Veröffentlicht