Application of magnetic fields in industrial growth of silicon single crystals

verfasst von: W. von Ammon, Y. Gelfgat, L. Gorbunov, A. Muižnieks, Y. Makarov, J. Virbulis, G. Müller, A. Mühlbauer
Organisationseinheit(en): Institut für Elektroprozesstechnik
Externe Organisation(en): Siltronic AG
University of Latvia
Semiconductor Technology Research Inc
PAIC Ltd
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB)
Typ: Artikel
Journal: Magnetohydrodynamics
Band: 42
Seiten: 427-444
Anzahl der Seiten: 18
ISSN: 0024-998X
Publikationsdatum: 2006
Publikationsstatus: Veröffentlicht
Peer-reviewed: Ja
ASJC Scopus Sachgebiete: Allgemeine Physik und Astronomie, Elektrotechnik und Elektronik
Ziele für nachhaltige Entwicklung: SDG 9 – Industrie, Innovation und Infrastruktur
Elektronische Version(en): https://doi.org/10.22364/mhd.42.4.10 (Zugang: Geschlossen)